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主编推荐语

详解CMOS模拟集成电路版图规划、布局、设计到流片的全流程。

内容简介

本书详尽地介绍了目前主流使用的模拟集成电路版图设计和验证工具————Cadence IC 6.1.7与Siemens EDA Calibre Design Solutions (Calibre);同时展示了运算放大器、带隙基准源、低压差线性稳压器、模-数转换器等典型模拟集成电路版图的设计实例,并结合实例对LVS验证中的典型案例进行了归纳和总结;最后对集成电路设计使用的工艺设计工具包内容,以及参数化单元建立方法进行了讨论。

本书通过结合基础、工具和设计实践,由浅入深,使读者深刻了解CMOS模拟集成电路版图设计和验证的规则、流程和基本方法,对于进行CMOS模拟集成电路学习的高年级本科生、研究生,以及从事集成电路版图设计与验证的工程师,都能提供有益的帮助。

目录

  • 版权信息
  • 第2版前言
  • 第1版前言
  • 第1章 先进集成电路器件
  • 1.1 概述
  • 1.2 平面全耗尽绝缘衬底上硅(FD-SOI)MOSFET
  • 1.2.1 采用薄氧化埋层的原因
  • 1.2.2 超薄体中的二维效应
  • 1.3 FinFET
  • 1.3.1 三栅以及双栅FinFET
  • 1.3.1.1 鳍形超薄体掺杂效应
  • 1.3.1.2 体反型效应
  • 1.3.2 实际中的结构选择
  • 1.4 碳基晶体管
  • 1.4.1 碳纳米管
  • 1.4.2 碳纳米管场效应晶体管
  • 1.5 版图相关效应
  • 1.5.1 阱邻近效应
  • 1.5.2 浅槽隔离应力效应
  • 1.6 基于gm/ID的设计方法
  • 1.6.1 模拟集成电路的层次化设计
  • 1.6.2 gm/ID设计方法所处的地位
  • 1.6.3 gm/ID设计方法的优势
  • 1.6.4 基于Vov的设计方法
  • 1.6.5 gm/ID设计方法详述
  • 1.6.6 基于gm/ID的设计实例
  • 第2章 CMOS模拟集成电路版图基础
  • 2.1 CMOS模拟集成电路设计流程
  • 2.2 CMOS模拟集成电路版图定义
  • 2.3 CMOS模拟集成电路版图设计流程
  • 2.3.1 版图规划
  • 2.3.2 版图设计实现
  • 2.3.3 版图验证
  • 2.3.4 版图完成
  • 2.4 版图设计通用规则
  • 2.5 版图布局
  • 2.5.1 对称约束下的晶体管级布局
  • 2.5.2 版图约束下的层次化布局
  • 2.6 版图布线
  • 2.7 CMOS模拟集成电路版图匹配设计
  • 2.7.1 CMOS工艺失配机理
  • 2.7.2 元器件版图匹配设计规则
  • 第3章 Cadence Virtuoso 6.1.7版图设计工具
  • 3.1 Cadence Virtuoso 6.1.7界面介绍
  • 3.1.1 Cadence Virtuoso 6.1.7 CIW界面介绍
  • 3.1.2 Cadence Virtuoso 6.1.7 Library Manager界面介绍
  • 3.1.2.1 Cadence Virtuoso 6.1.7 Library Manager启动
  • 3.1.2.2 Cadence Virtuoso 6.1.7 Library Manager界面介绍
  • 3.1.2.3 Cadence Virtuoso 6.1.7 Library Manager基本操作
  • 3.1.3 Cadence Virtuoso 6.1.7 Library Path Editor操作介绍
  • 3.1.3.1 Cadence Virtuoso 6.1.7 Library Path Editor的启动
  • 3.1.3.2 Cadence Virtuoso 6.1.7 Library Path Editor的操作介绍
  • 3.1.4 Cadence Virtuoso 6.1.7 Layout Editor界面介绍
  • 3.1.4.1 窗口标题栏(Window Title)
  • 3.1.4.2 菜单栏(Menu Banner)
  • 3.1.4.3 快捷图标(Icon Menu)
  • 3.1.4.4 设计区域(Design Area)
  • 3.1.4.5 鼠标状态栏(Mouse Settings)
  • 3.1.4.6 提示栏(Prompt Line)
  • 3.1.4.7 状态栏(Status Banner)
  • 3.1.4.8 元素选择属性栏(Selected)
  • 3.1.4.9 调色面板(Palette)
  • 3.2 Virtuoso基本操作
  • 3.2.1 创建圆形
  • 3.2.2 创建矩形
  • 3.2.3 创建路径
  • 3.2.4 创建标识名
  • 3.2.5 调用器件和阵列
  • 3.2.6 创建接触孔和通孔
  • 3.2.7 创建环形图形
  • 3.2.8 移动命令
  • 3.2.9 复制命令
  • 3.2.10 拉伸命令
  • 3.2.11 删除命令
  • 3.2.12 合并命令
  • 3.2.13 改变层次关系命令
  • 3.2.14 切割命令
  • 3.2.15 旋转命令
  • 3.2.16 属性命令
  • 3.2.17 分离命令
  • 3.2.18 改变形状命令
  • 3.2.19 版图层扩缩命令
  • 第4章 Siemens EDA Calibre版图验证工具
  • 4.1 Siemens EDA Calibre版图验证工具简介
  • 4.2 Siemens EDA Calibre版图验证工具调用
  • 4.2.1 采用内嵌在Cadence Virtuoso Layout Editor工具启动
  • 4.2.2 采用Calibre图形界面启动
  • 4.2.3 采用Calibre查看器启动
  • 4.3 Siemens EDA Calibre DRC验证
  • 4.3.1 Calibre DRC验证简介
  • 4.3.2 Calibre Interactive nmDRC界面介绍
  • 4.3.3 Calibre nmDRC验证流程举例
  • 4.4 Siemens EDA Calibre nmLVS验证
  • 4.4.1 Calibre nmLVS验证简介
  • 4.4.2 Calibre nmLVS界面介绍
  • 4.4.3 Calibre LVS验证流程举例
  • 4.5 Siemens EDA Calibre寄生参数提取(PEX)
  • 4.5.1 Calibre PEX验证简介
  • 4.5.2 Calibre PEX界面介绍
  • 4.5.3 Calibre PEX流程举例
  • 第5章 Calibre验证文件
  • 5.1 Virtuoso Techfile
  • 5.1.1 Virtuoso Techfile内容
  • 5.1.2 修改示例
  • 5.2 Virtuoso Layer Map
  • 5.2.1 Virtuoso Layer Map内容
  • 5.2.2 示例:Virtuoso Layer Map修改方法
  • 5.3 Virtuoso Symbol CDF
  • 5.3.1 Virtuoso Symbol CDF内容
  • 5.3.2 示例:Virtuoso参数修改方法
  • 5.4 SVRF语言
  • 5.4.1 SVRF基本符号使用
  • 5.4.2 SVRF基本math function
  • 5.4.3 SVRF基本格式
  • 5.4.4 Layer Operations运算输出
  • 5.5 DRC rule
  • 5.5.1 DRC rule内容
  • 5.5.2 DRC rule主要operation
  • 5.5.3 DRC rule验证方法
  • 5.5.4 修改示例
  • 5.6 LVS(PEX)rule
  • 5.6.1 LVS rule内容
  • 5.6.2 LVS rule器件定义
  • 5.6.3 LVS rule验证方法
  • 5.6.4 示例:pdio18e2r LVS rule添加方法
  • 第6章 CMOS模拟集成电路版图设计与验证流程
  • 6.1 设计环境准备
  • 6.2 单级跨导放大器电路的建立和前仿真
  • 6.3 跨导放大器版图设计
  • 6.4 跨导放大器版图验证与参数提取
  • 6.5 跨导放大器电路后仿真
  • 6.6 输入输出单元环设计
  • 6.7 主体电路版图与输入输出单元环的连接
  • 6.8 导出GDSII文件
  • 第7章 运算放大器的版图设计
  • 7.1 运算放大器基础
  • 7.2 运算放大器的基本特性和分类
  • 7.2.1 运算放大器的基本特性
  • 7.2.2 运算放大器的性能参数
  • 7.2.3 运算放大器的分类
  • 7.3 单级折叠共源共栅运算放大器的版图设计
  • 7.4 两级全差分密勒补偿运算放大器的版图设计
  • 7.5 电容—电压转换电路版图设计
  • 第8章 带隙基准源与低压差线性稳压器的版图设计
  • 8.1 带隙基准源的版图设计
  • 8.1.1 带隙基准源基本原理
  • 8.1.1.1 负温度系数电压
  • 8.1.1.2 正温度系数电压
  • 8.1.1.3 零温度系数基准电压
  • 8.1.1.4 零温度系数基准源电路结构
  • 8.1.1.5 基准电压源的启动问题
  • 8.1.2 带隙基准源版图设计实例
  • 8.2 低压差线性稳压器的版图设计
  • 8.2.1 低压差线性稳压器的基本原理
  • 8.2.2 低压差线性稳压器版图设计实例
  • 第9章 模-数转换器版图设计
  • 9.1 性能参数
  • 9.1.1 静态参数
  • 9.1.2 动态特性
  • 9.1.3 功耗指标
  • 9.1.4 抖动
  • 9.2 模-数转换器的结构及版图设计
  • 9.2.1 快闪型模-数转换器(Flash ADC)
  • 9.2.2 快闪型模-数转换器版图设计
  • 9.2.3 流水线模-数转换器基础(Pipelined ADC)
  • 9.2.4 流水线模-数转换器版图设计
  • 9.2.5 逐次逼近模-数转换器(Successive Approximation ADC)
  • 9.2.6 逐次逼近模-数转换器版图设计
  • 9.2.7 Sigma-delta模-数转换器
  • 9.2.7.1 过采样
  • 9.2.7.2 噪声整形
  • 9.2.7.3 数字抽取滤波器
  • 9.2.7.4 低阶Sigma-delta调制器结构
  • 9.2.7.5 单环高阶Sigma-delta调制器结构
  • 9.2.7.6 级联高阶Sigma-delta调制器结构
  • 9.2.7.7 多位量化Sigma-delta调制器结构
  • 9.2.8 Sigma-delta调制器版图设计
  • 9.3 混合信号集成电路版图设计
  • 第10章 标准输入输出单元库版图设计
  • 10.1 标准输入输出单元库概述
  • 10.1.1 标准输入输出单元库基本性能参数
  • 10.1.2 标准输入输出单元库分类
  • 10.2 输入输出单元库基本电路结构
  • 10.2.1 数字双向模块基本电路结构
  • 10.2.2 模拟输入输出模块基本电路结构
  • 10.2.3 电源与地模块基本电路结构
  • 10.2.4 切断单元与连接单元
  • 10.3 输入输出单元库版图设计
  • 10.3.1 数字输入输出单元版图设计
  • 10.3.2 模拟输入输出单元的制作
  • 10.3.3 焊盘(PAD)的制作
  • 第11章 Calibre LVS常见错误解析
  • 11.1 LVS错误对话框(RVE对话框)
  • 11.2 误连接
  • 11.3 短路
  • 11.4 断路
  • 11.5 违反工艺原理
  • 11.6 漏标
  • 11.7 元件参数错误
  • 第12章 工艺设计工具包
  • 12.1 PDK概述
  • 12.2 输入输出单元库
  • 12.3 模拟PDK文件包
  • 12.4 逻辑PDK文件包
  • 12.5 工艺设计工具包开发简述
  • 参考文献
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出版方

机械工业出版社

机械工业出版社是全国优秀出版社,自1952年成立以来,坚持为科技、为教育服务,以向行业、向学校提供优质、权威的精神产品为宗旨,以“服务社会和人民群众需求,传播社会主义先进文化”为己任,产业结构不断完善,已由传统的图书出版向着图书、期刊、电子出版物、音像制品、电子商务一体化延伸,现已发展为多领域、多学科的大型综合性出版社,涉及机械、电工电子、汽车、计算机、经济管理、建筑、ELT、科普以及教材、教辅等领域。