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449千字 字数
2020-12-01 发行日期
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主编推荐语

科学原理与实践结合，全面介绍TFT-LCD技术。

内容简介

本书将科学原理与工程实践相结合，系统介绍了TFT-LCD的基本原理与功能设计。全书一共12章，分三大部分。第一部分介绍TFT-LCD的基本概念，TFT器件的工作原理与液晶的基本物理特性；第二部分介绍TFT-LCD的材料技术与工艺技术；第三部分介绍TN/IPS/VA显示屏原理与设计、TFT-LCD电路驱动原理与设计、TFT-LCD模组结构原理与设计、TFT-LCD高品质和低成本设计、半透过型TFT-LCD原理与设计。本书内容在介绍TFT-LCD基本原理的基础上，比较全面地介绍了近几年发展起来的一些TFT-LCD新技术、新应用。

目录

  • 封面
  • 前折页
  • 版权信息
  • 内容简介
  • 《国之重器出版工程》编辑委员会
  • 新型显示技术丛书编委会
  • 总序
  • 序言
  • 前言
  • 第1章 绪论
  • 1.1 TFT-LCD的功能结构
  • 1.2 TFT-LCD的基本概念
  • 1.2.1 与物理相关的概念
  • 1.2.2 与光学相关的概念
  • 1.3 TFT-LCD的彩色显示
  • 1.3.1 光的颜色和亮度
  • 1.3.2 色的坐标和温度
  • 1.3.3 彩色显示的基本概念
  • 本章参考文献
  • 第2章 TFT器件技术
  • 2.1 TFT器件基础
  • 2.1.1 TFT器件的种类与结构
  • 2.1.2 TFT器件的开关特性
  • 2.1.3 TFT开关特性的结构设计
  • 2.2 a-Si TFT技术
  • 2.2.1 a-Si半导体特性
  • 2.2.2 a-Si TFT开关特性
  • 2.2.3 a-Si TFT工艺技术
  • 2.2.4 a-Si TFT开关的工艺设计
  • 2.3 LTPS TFT技术
  • 2.3.1 LTPS TFT的分类
  • 2.3.2 LTPS半导体特性
  • 2.3.3 LTPS TFT器件特性
  • 2.3.4 LTPS TFT工艺技术
  • 2.4 IGZO TFT技术
  • 2.4.1 IGZO半导体特性
  • 2.4.2 IGZO TFT器件特性
  • 2.4.3 IGZO TFT可靠性
  • 本章参考文献
  • 第3章 液晶显示基础
  • 3.1 液晶结构
  • 3.2 液晶光学
  • 3.2.1 液晶的光学各向异性
  • 3.2.2 液晶的偏光特性
  • 3.3 液晶电学
  • 3.3.1 液晶的介电各向异性
  • 3.3.2 液晶的V-T特性
  • 3.3.3 液晶的交流驱动
  • 3.4 液晶力学
  • 3.4.1 液晶的黏弹性
  • 3.4.2 液晶动态电容效应
  • 3.5 液晶材料
  • 3.5.1 液晶分子结构与特性
  • 3.5.2 液晶材料的特性要求
  • 3.6 液晶显示模式
  • 3.6.1 TN显示模式
  • 3.6.2 IPS显示模式
  • 3.6.3 VA显示模式
  • 本章参考文献
  • 第4章 TFT-LCD材料技术
  • 4.1 玻璃基板
  • 4.1.1 玻璃基板的制造技术
  • 4.1.2 玻璃基板的使用要求
  • 4.2 导电薄膜
  • 4.2.1 金属导电薄膜
  • 4.2.2 ITO透明导电薄膜
  • 4.3 配向膜
  • 4.3.1 配向膜的材料技术
  • 4.3.2 配向膜的特性要求
  • 4.4 封框胶
  • 4.5 间隙子
  • 4.6 CF基板
  • 4.6.1 CF的材料技术
  • 4.6.2 CF的特性要求
  • 4.7 偏光板
  • 4.7.1 偏光板概述
  • 4.7.2 相位差板
  • 4.7.3 宽视角补偿膜
  • 4.8 电路元件
  • 4.8.1 电学元器件
  • 4.8.2 PCB基板
  • 4.8.3 驱动IC封装方式
  • 4.9 背光源
  • 4.9.1 光源
  • 4.9.2 光学膜片
  • 4.9.3 导光板
  • 本章参考文献
  • 第5章 TFT-LCD工艺技术
  • 5.1 阵列工艺技术
  • 5.1.1 阵列工艺流程
  • 5.1.2 玻璃基板洗净
  • 5.1.3 PVD成膜
  • 5.1.4 PECVD成膜
  • 5.1.5 光刻胶处理
  • 5.1.6 曝光处理
  • 5.1.7 湿刻
  • 5.1.8 干刻
  • 5.1.9 阵列检查工程
  • 5.2 成盒工艺技术
  • 5.2.1 配向膜处理
  • 5.2.2 封框胶涂布
  • 5.2.3 液晶滴下
  • 5.2.4 真空贴合
  • 5.2.5 封框胶硬化
  • 5.2.6 玻璃切断
  • 5.2.7 偏光板贴附
  • 5.2.8 成盒工程检查
  • 5.3 模块工艺技术
  • 5.3.1 外引脚贴合
  • 5.3.2 信号处理基板压接
  • 5.3.3 模块组装
  • 5.3.4 老化实验
  • 5.3.5 模块工程检查
  • 本章参考文献
  • 第6章 TN显示原理与设计
  • 6.1 TN显示原理
  • 6.1.1 TN显示的透光率
  • 6.1.2 TN显示模式的选择
  • 6.1.3 TN显示的光学原理
  • 6.1.4 TN显示的电学原理
  • 6.2 TN像素工作原理
  • 6.2.1 TN像素基本结构
  • 6.2.2 像素中的电容效应
  • 6.2.3 配线延迟效应
  • 6.2.4 灰阶电压写入与保持
  • 6.2.5 TN显示的综合效应
  • 6.3 15XGA的显示屏设计
  • 6.3.1 预设计
  • 6.3.2 TFT侧像素设计
  • 6.3.3 彩膜侧像素设计
  • 6.3.4 显示屏周边设计
  • 6.3.5 显示屏用标记设计
  • 6.4 15XGA的基板相关设计
  • 6.4.1 基板用TEG与标记设计
  • 6.4.2 UV掩膜版和UV基板设计
  • 6.4.3 配向膜印刷版设计
  • 本章参考文献
  • 第7章 IPS显示原理与设计
  • 7.1 IPS显示原理
  • 7.1.1 IPS显示的透光率
  • 7.1.2 IPS显示的光学原理
  • 7.1.3 IPS显示的电学原理
  • 7.2 IPS技术的发展
  • 7.2.1 S-IPS显示技术
  • 7.2.2 AS-IPS显示技术
  • 7.2.3 FFS显示技术
  • 7.2.4 AFFS显示技术
  • 7.3 32HD IPS显示屏设计
  • 7.3.1 IPS像素设计原理
  • 7.3.2 32HD像素设计
  • 7.3.3 32HD显示屏设计
  • 7.4 32UHD FFS显示屏设计
  • 7.4.1 AFFS像素设计原理
  • 7.4.2 32UHD像素设计
  • 7.4.3 32UHD显示屏设计
  • 7.5 IPS残像的机理与对策
  • 7.5.1 IPS残像的机理
  • 7.5.2 离子型不纯物分析
  • 7.5.3 残留DC分析
  • 7.5.4 线残像的机理与对策
  • 本章参考文献
  • 第8章 VA显示原理与设计
  • 8.1 VA显示原理
  • 8.1.1 VA显示的透光率
  • 8.1.2 VA显示的光学原理
  • 8.1.3 VA显示的电学原理
  • 8.2 VA技术的发展
  • 8.2.1 MVA显示技术
  • 8.2.2 PVA显示技术
  • 8.2.3 CPA显示技术
  • 8.2.4 PSVA显示技术
  • 8.2.5 UV2A显示技术
  • 8.3 VA的色偏机理与对策
  • 8.3.1 VA的色偏机理与评价
  • 8.3.2 色偏的8畴改善技术
  • 8.3.3 色偏的其他改善技术
  • 8.4 98QUHD显示屏设计
  • 8.4.1 98QUHD的传统VA像素设计
  • 8.4.2 98QUHD的光配向VA像素设计
  • 8.4.3 98QUHD显示屏设计
  • 本章参考文献
  • 第9章 TFT-LCD驱动技术与设计
  • 9.1 TFT-LCD驱动原理
  • 9.1.1 驱动原理简介
  • 9.1.2 驱动方式
  • 9.1.3 灰阶增强技术
  • 9.2 TFT-LCD电路技术
  • 9.2.1 接口电路
  • 9.2.2 电源电路
  • 9.2.3 时序控制电路
  • 9.2.4 数据驱动电路
  • 9.2.5 扫描驱动电路
  • 9.3 TFT-LCD电路设计
  • 9.3.1 电路原理图设计
  • 9.3.2 PCB和COF版图设计
  • 9.3.3 COF设计
  • 9.3.4 伽马设计与调节
  • 本章参考文献
  • 第10章 TFT-LCD结构技术与设计
  • 10.1 结构技术与设计概要
  • 10.1.1 结构技术概要
  • 10.1.2 结构设计概要
  • 10.2 模组的结构设计
  • 10.2.1 开路显示屏结构设计
  • 10.2.2 胶框设计
  • 10.2.3 导光板设计
  • 10.2.4 光学膜片设计
  • 10.2.5 CCFL光源的结构设计
  • 10.2.6 LED光源的结构设计
  • 10.3 背光源的光学设计
  • 10.3.1 光学设计基础
  • 10.3.2 亮度设计
  • 10.3.3 亮度均匀性设计
  • 10.3.4 光学品质设计
  • 10.4 模组的力学设计
  • 10.4.1 强度设计
  • 10.4.2 散热设计
  • 10.4.3 防尘设计
  • 10.5 模组的电学设计
  • 10.5.1 EMI设计
  • 10.5.2 绝缘耐压设计
  • 10.6 模组的其他设计
  • 10.6.1 组装设计
  • 10.6.2 安全性设计
  • 本章参考文献
  • 第11章 高品质和低成本设计
  • 11.1 面向光学规格的高品质设计
  • 11.1.1 高亮度设计
  • 11.1.2 高对比度设计
  • 11.1.3 高响应速度设计
  • 11.2 面向特殊画质的高品质设计
  • 11.2.1 闪烁机理与设计对策
  • 11.2.2 串扰机理与设计对策
  • 11.2.3 显示不均的机理与设计对策
  • 11.3 高合格率设计
  • 11.3.1 工程检查及相关设计
  • 11.3.2 ESD改善设计
  • 11.3.3 点缺陷修复设计
  • 11.3.4 线缺陷修复设计
  • 11.4 低成本设计
  • 11.4.1 掩膜版消减技术
  • 11.4.2 驱动IC消减技术
  • 11.4.3 背光源零组件消减技术
  • 本章参考文献
  • 第12章 半透过型TFT-LCD设计
  • 12.1 反射型TFT-LCD原理与设计
  • 12.2 半透过型TFT-LCD原理与设计
  • 12.3 半透过型TFT-LCD的反射光学设计
  • 12.3.1 内反射光学设计
  • 12.3.2 外反射光学设计
  • 12.4 半透过型TFT-LCD的偏光光学设计
  • 12.4.1 ECB常白模式的偏光光学设计
  • 12.4.2 ECB常黑模式的偏光光学设计
  • 本章参考文献
  • 封底
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出版方

电子工业出版社

电子工业出版社成立于1982年10月，是国务院独资、工信部直属的中央级科技与教育出版社，是专业的信息技术知识集成和服务提供商。经过三十多年的建设与发展，已成为一家以科技和教育出版、期刊、网络、行业支撑服务、数字出版、软件研发、软科学研究、职业培训和教育为核心业务的现代知识服务集团。出版物内容涵盖了电子信息技术的各个分支及工业技术、经济管理、科普与少儿、社科人文等领域，综合出版能力位居全国出版行业前列。